EUV光刻设备国内外专利分析之区域布局

光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。当今最先进的半导体光刻工艺使用EUV光源，EUV光刻是制造下一代半导体芯片的关键步骤。本文聚焦EUV光刻设备，对相关国内外专利进行统计分析（检索时间2023.02，检索平台：Incopat）。

全球EUV光刻设备专利技术区域布局

EUV光刻设备技术专利公开国家或区域比较集中，主要布局在美国、日本、德国、韩国、中国和中国台湾，占据全部公开量的95%。其中美国市场尤为受到关注，专利公开量占总公开量的29%。

图1：EUV光刻设备专利公开国家/区域分布

（数据来源：上图上情所研究整理）

EUV光刻设备技术相关的中国专利申请中，国外来华专利申请占全部申请总量的67%，国内专利申请占全部申请总量的33%。EUV光刻设备技术专利在国内地域分布比较集中，主要申请人聚集在中国台湾、上海和北京等地区。来自中国台湾的专利申请量为78件，居于首位。

图2：中国专利申请技术来源地区分布

（数据来源：上图上情所研究整理）